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RIBER, leader mondial de l’épitaxie par jets moléculaires (MBE), annonce le lancement d’un système robotisé innovant, le réacteur MPVD300.

Afin de satisfaire à la demande de nouveaux microprocesseurs ultra-rapides et de mémoires de grande capacité (CMOS et MRAM) Riber annonce la livraison de son nouveau système MBE (Molecular Beam Epitaxy) MPVD300. Basé sur la technique de dépôt en ultra-vide (UHV) et compatible avec les standards de l’industrie du semi-conducteur silicium, le MPVD300 parvient à offrir une précision de contrôle inégalée et des défauts d’uniformité de dépôt inférieurs à 1% sur une tranche de 300mm (précision à la couche monoatomique).

Entièrement automatisé, le MPVD300 de Riber est le seul système de déposition sous ultravide conçu de façon modulaire et directement raccordable sur la chaîne de production robotisée. Le premier exemplaire sera expédié en juillet à un fabriquant majeur en Asie.

Ce développement démontre l’orientation de Riber vers le secteur de la production Silicium.

Parallèlement, Riber prépare le lancement d’un autre système UHV à chambres multiples (système « cluster ») pour le développement de dispositifs optiques et haute fréquence en juillet. Ce nouveau système MBE augmentera la base installée des équipements cluster Riber - un concept qui a été conçu et présenté au marché par Riber il y a plusieurs années.

http://www.riber.com