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STMicroelectronics choisit Calibre LFD pour l’analyse de la variabilité provenant des procédés lithographiques en 65 et 45 nm

Publication: Juin 2008

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Mentor Graphics (Nasdaq : MENT) annonce que STMicroelectronics a choisi la plate-forme DFM (design for manufacturing) Calibre® comprenant Calibre LFD™ (Litho-Friendly-Design) pour l’analyse de la variabilité provenant des procédés lithographiques de fabrication en 65 nanomètres (nm) et au-delà.
 

Cette annonce fait suite à une longue période d’évaluation des solutions du commerce par STMicroelectronics en termes de précision, de rapidité et de capacité à s’intégrer aux flots de conception existants. Cette décision s’appuie sur la relation entre STMicroelectronics et Mentor, qui a débuté avec l’utilisation des outils Calibre OPC à 130 nm, et qui s’est poursuivie pour tous les procédés suivants, y compris à 45 nm.

« Une analyse efficace de la variabilité d’un procédé de fabrication exige une modélisation très précise de celui-ci. Les modèles utilisés par la solution Calibre LFD se sont avérés précis à 65 et 45 nm », déclare Joël Hartmann, directeur de la division "Silicon Technology Development de" STMicroelectronics. « De plus, la solution Calibre facilite le réétalonnage des modèles induit pas l’évolution des paramètres lors de la mise production d’une nouvelle technologie. »

La plate-forme Calibre DFM propose un flot complet et intégré qui permet un meilleur contrôle de la variabilité des procédés de fabrication. Elle offre une modélisation précise du comportement du procédé lithographique en réponse aux variations de dose d’exposition, de la défocalisation, du traitement RET (Resolution Enhancement Technology) et des caractéristiques de gravure. Et comme elle est totalement intégrée au composant Calibre LVS (Layout vs. Schematic), les dimensions critiques des transistors peuvent être extraites sur la base des géométries des contours modélisées avec LFD. Les paramètres ainsi obtenus, qui reflètent les géométries réelles, peuvent être ajoutés à un modèle SPICE pour produire une simulation temporelle précise du produit final.

« STMicroelectronics a choisi Calibre LFD pour caractériser la variabilité car la prédiction précise des variations induites par l’étape lithographique à travers la fenêtre de procédée est essentielle à notre flot DFM avancé », poursuit Philippe Magarshack, vice-président du groupe Technology R&D et directeur général de la division "Central CAD and Design Solutions" de STMicroelectronics. « Calibre LFD fournit une combinaison optimale de rapidité et de précision élevée, plus une excellente intégration avec le reste du flot de conception Calibre utilisé par ST. »

Grâce à la précision de l’outil Calibre LFD, des clients comme STMicroelectronics ont l’assurance que les défauts lithographiques détectés sont de véritables limiteurs du rendement de fabrication et que les paramètres extraits des transistors ne sont pas des valeurs idéalisées mais reflètent bien le comportement réel du silicium. Les concepteurs peuvent ensuite améliorer le layout en sachant que leurs efforts auront un impact réel sur le rendement de fabrication. L’intégration avec le système de placement-routage Olympus-SoC™ de Mentor Graphics permet une correction automatique des défauts lithographiques détectés par Calibre LFD, et ce au moment de la création du design, rendant ainsi l’offre globale très efficace. Calibre LFD va être intégré dans les Design Kits certifiés de STMicroelectronics et déployé auprès des concepteurs ST du monde entier.

« Nous sommes enchantés des résultats de notre collaboration de deux ans avec STMicroelectronics », conclut Joseph Sawicki, vice-président et directeur général de la division Design-to-Silicon de Mentor Graphics. « L’utilisation de notre solution DFM par des leaders de l’industrie pour la production de leurs circuits intégrés complexes nous confère une place à part sur le marché. »

http://www.mentor.com

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