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Le nouvel accord de marketing et de support commun aidera à assurer des interfaces intégrées, une haute fidélité des masques, des temps d’écriture de masques rapides et de très hauts niveaux de support technique.

Le nouvel accord couvre les produits Mentor Graphics® Calibre® FRACTUREt™, Calibre FRACTUREv™, Calibre MDPmerge™, Calibre MDPverify™, Calibre nmMPC et Calibre MDPview™. Ceux-ci sont utilisés avec les scripteurs de masque NuFlare avec la série EBM-3000 jusqu’à la série EBM-8000, et sont en cours d’extension aux machines de future génération pour réaliser la préparation des données, la correction de process et la vérification des données de masque afin d’améliorer la fidélité de la forme du masque final. NuFlare utilisera également les outils Mentor pour étudier les innovations pendant la recherche et développement, pour vérifier les nouvelles caractéristiques produits et pour aider dans le support client. Les derniers efforts de Mentor et NuFlare ont abouti à la définition d’une interface d’entrée OASIS.MASK et à la définition d’extensions de format pour réaliser les annotations de dose pour l’écriture de masques avancés dans des outils de nouvelle génération.

"Mentor est le leader reconnu en OPC, MDP et MPC, et a prouvé qu’il était un partenaire stratégique novateur et fiable tout au long de notre longue collaboration," souligne Kiyoshi Hattori, directeur et directeur général du département Mask Lithography Engineering de NuFlare.

"Nous sommes ravis d’étendre notre collaboration avec NuFlare, leader reconnu dans les équipements de script de masques. Notre étroite coopération a fourni de nombreux avantages technologiques et de service à nos clients communs," ajoute Joseph Sawicki, vice president et directeur général de la division Design to Silicon Mentor.

http://www.mentor.com