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Actualité des entreprises

Toshiba lance des MOSFET en carbure de silicium (SiC) de 3ème génération

Publication: Septembre 2023

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Ces nouveaux composants à boîtier à 4 broches offrent les performances de commutation améliorées des MOSFET dans les applications industrielles...
 

Toshiba Electronics Europe GmbH (“Toshiba”) a lancé la série TWxxxZxxxC de dix MOSFET en carbure de silicium (SiC) basés sur sa technologie de troisième génération. Ils sont destinés à réduire les pertes dans une grande variété d’applications industrielles, notamment les alimentations à découpage pour les serveurs et les centres de données, les stations de recharge pour véhicules électriques (EV), les onduleurs photovoltaïques (PV) et les alimentations sans interruption (uninterruptible power supplies, UPS).

Les composants de la série TWxxxZxxxC sont les premiers produits SiC de Toshiba à être logés dans un boîtier TO-247-4L(X) doté d’une quatrième broche. Cela permet d’obtenir une connexion Kelvin de la borne source de signal pour le pilotage de la grille, réduisant ainsi les effets d’inductance parasites du fil de source interne et améliorant les performances de commutation à grande vitesse. La comparaison du TW045Z120C avec le TW045N120C existant de Toshiba (TO-247 à 3 broches) montre une amélioration de la perte à l’activation d’environ 40 %, tandis que la perte à la désactivation est améliorée d’environ 34 %.

La nouvelle série TWxxxZxxxC comprend cinq composants avec une valeur nominale drain-source (V DSS ) de 650 V et cinq autres composants évalués à 1200 V pour les applications à plus haute tension. La résistance drain-source typique (R DS(ON) ) est comprise entre 140 mΩ et 15 mΩ. Associé à de faibles valeurs de charge drain grille (Q GD ), cela permet de faibles pertes, même dans les applications à haute fréquence.

Les composants sont capables de fournir des courants de drain continus (ID) allant jusqu’à 100 A.

https://toshiba.semicon-storage.com/

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