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Actualité des entreprises

Toshiba sélectionne la plateforme Calibre DFM de Mentor Graphics pour son flot d’extraction de paramètres technologiques

Publication: Juillet 2008

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Mentor Graphics (Nasdaq : MENT) annonce que Toshiba Corporation a sélectionné sa plateforme Calibre® DFM pour son flot d’extraction de paramètres (Device Extraction Flow) destiné à contrôler la variabilité des procédés de fabrication à 45 nm et au-delà.
 

Mentor Graphics (Nasdaq : MENT) annonce que Toshiba Corporation a sélectionné sa plateforme Calibre® DFM pour son flot d’extraction de paramètres (Device Extraction Flow) destiné à contrôler la variabilité des procédés de fabrication à 45 nm et au-delà. "Au stade de la conception, les actions ayant pour objectif de minimiser l’impact de la variabilité des procédés de fabrication, est essentielle pour conserver un avantage concurrentiel dans le domaine des technologiques avancées", déclare le D. Ph. Fumitomo Matsuoka, Manager à l’Advanced Logic Technology Department, System LSI Division de Toshiba .

Les solutions Calibre aident Toshiba à atteindre ses objectifs de précision des paramètres des "devices" grâce à la simulation lithographique fine des interactions entre les dispositifs de géométries très réduite. Une collaboration étroite entre les ingénieurs des départements de conception et de création de dispositif a permis à Toshiba de développer un flot d’extraction de paramètres systématique élaboré, qui, intégré au flot du procédé lithographique produit des modèles de transistor plus précis intégrant des effets réels qui deviennent importants au delà de 45nm. Toshiba a fait de la plateforme Calibre DFM une technologie clé dans sa méthodologie de conception prenant en compte la variabilité du process en raison de sa haute précision et de sa compatibilité avec le flot complet de Toshiba.

La solution Calibre DFM comporte la fonction Calibre LFD™ (Litho-Friendly Design), entièrement intégrée aux nouvelles fonctions Calibre LVS ADP (Advanced Device Parameter), qui permet d’extraire les dimensions essentielles du dispositif depuis les contours modélisées à l’aide de la solution LFD, afin de déterminer un ensemble équivalent de paramètres applicables pour les dispositifs. Les paramètres ainsi obtenus reflètent les formes définitives des dispositifs ; ces paramètres peuvent alors être reliés à un modèle SPICE afin de simuler précisément le fonctionnement du dispositif réel. En ce qui concerne les paramètres de dessin, le composant LVS Calibre est conforme aux modèles répondant aux dernières normes industrielles et intègre les modèles spécifiques au domaine de la fonderie afin de gérer les effets de déformation importants. L’association des fonctionnalités des solutions Calibre LFD et LVS offre une solution intégrée complète qui améliore les simulations SPICE grâce à des résultats plus précis qui reflètent de manière plus réelle le comportement actuel du silicium.

"Toshiba inaugure la prochaine étape du « Design For Manufacturing » qui implique d’aller au-delà de la suppression des défauts catastrophiques qui affectent le rendement et d’aborder les problématiques paramétriques qui affectent le rendement" indique Joseph Sawicki, vice-président et directeur général de la division Design-To-Silicon chez Mentor Graphics. "Alors que les fonderies et les fournisseurs EDA travaillent ensemble à la modélisation précise des procédés de fabrication pour des technologies élaborées, nous pouvons avoir un impact non négligeable sur les performances et le rendement général du dispositif."

http://www.mentor.com

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